| 加工定制：否 | 品牌：anatech | 型号：SCE-115 |
| 产品适用范围：实验室、小型生产 | 测量范围：380mm | 电源：交流 |
| 工作电压：220V | 外形尺寸：380mm以上 | 重量：50kg |
SCE-115等离子去胶机是专用于去除各种光刻胶的，光刻胶是用于晶片制造行业，把(印刷电路)电路图案转移到晶片上。一旦获得光刻胶图案，就必须在下一个制造工艺之前去除。 干式化学处理等离子体去胶是一种环境友好性的去除光刻胶的“绿色”方式。无废液排放！
可以采用湿法化学处理，但是处理化学试剂的危险和费用就很高。而且湿法处理的残留物可干扰下一个工艺。
SCE-115等离子去胶机技术参数：
控制系统
? PLC触摸屏界面；
? 电源、真空、流量及时间的数码显示；
? 多菜单-工艺记忆；
? 密码保护；
? 气体流量控制器，(2) 500-sccm ；
? 真空系统和电源安全连锁装置；
控制系统 选配件
? 多路处***体通道（多达3路）；
? 电容压力计；
? 温度感应器；
? 节流阀；
尺寸
? 标准30英寸设备支架；
? 22" W x 36" H x 27" D
? 真空泵30" L x 12" W x 18" H
石英反应舱
? 10 x 18英寸石英反应舱；
? 前端装载式放样；
? 观测门装配观测口，防止紫外辐射；
? 平板电极；
反应舱选配
? 水冷却电极
RF射频电源
? 0-600 Watt, 13.56 MHz
? 正向(传输)和反射功率读数；
? 3%功率调节；
? 自动射频调配负载匹配；
RF射频电源选配
? 300 Watt, 13.56 MHz
? 1000 Watt 13.56 MHz
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