| 加工定制：是 | 品牌：LAURELL | 型号：WS-650 |
| 测量范围：10-150mm | 测量精度：0.006% | 分辨率：±0.5rpm |
| 电源电压：220 | 用途：涂胶 |
甩胶机(Spin Coater)，有许多别名：胶机，旋涂仪，旋转涂敷仪，匀胶台、涂层机、旋转涂布机、旋转涂膜仪等，其甩胶机工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
MYCRO公司提供美国***匀胶旋涂仪，请您放心选购！
MYCRO美国***的旋涂仪，自1985年开始，我们便为提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺。公司拥有WS系列各类旋转涂敷系统，目前客户已遍布全球。
匀胶机有很多种称谓，英文叫Spin Coater或者SpinProcessor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机/旋转涂层仪、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机旋涂仪
特色：
◆ 科研制备理想的旋涂仪;
◆ 天然聚丙烯或特氟龙材质构造;
◆ 216毫米，318毫米和370毫米三种腔体大小;
◆ 可选择台面式，和用于湿站或者手套箱系统的不同构造;
◆ 转速可达12000RPM;
◆ 易编程的数码控制器（WS650型控制器）;
◆ 可升级成为自动滴胶型;
请根据您实际需要的大小和材质选择相应的旋涂仪型号：
订购代码 尺寸范围 配置内容
WS-650-23NPPB 销量的台式系统
WS-650-23N-IND IND构造为湿站系统设计，带远程控制;
WS-650-23N-OND OND构造为手套箱系统设计，带远程控制;
可以涂敷直径为6英寸 (150 毫米)或5英寸 X 5英寸 (125 X 125 毫米)的方形基底材料 最小可达10 mm（可选配最小到3mm或5mm）涂敷
材质：天然聚丙烯
腔体直径：9.5英寸 (241 毫米)
转速可达12000转/分
加速度可达：13000 RPM/S
WS-650-8N
WS-650-8N-IND IND构造为湿站系统wet-bench设计，带远程控制;
WS-650-8N-OND OND构造为手套箱系统设计，带远程控制;
可以涂敷直径为8英寸 (200 毫米)或7英寸 X 7英寸 (178 X 178 毫米) 的方形基底材料 材质：天然聚丙烯
腔体直径：12.5英寸 (318 毫米)
转速可达12000转/分
WS-650-15N
WS-650-15N-IND IND构造为湿站系统wet-bench设计，带远程控制;
WS-650-15N-OND OND构造为手套箱系统设计，带远程控制;
可以涂敷直径为13英寸 (330 毫米)的基底材料 材质：天然聚丙烯
直径为14.5英寸 (370 毫米)半圆形处理腔
WS-650-XN
WS-650-XN-IND IND构造为湿站系统wet-bench设计，带远程控制;
WS-650-XN-IND OND构造为手套箱系统设计，带远程控制;
涂敷尺寸可订制 材质：天然聚丙烯
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主营产品：匀胶机，旋涂仪，甩胶台，匀胶台，涂层机，涂胶机，涂膜机,旋转涂敷仪, HPC,PPC, PAC，SCE系列等离子清洗机，Cargille光学试剂，光刻机/曝光机，压力机, 压片机, 热压机，WABASH热压机, CARVER热压机,LAURELL匀胶机、HOT PLATE热板 烤胶机
Laurell匀胶机 Harrick等离子清洗机 Diener等离子清洗机
Carver手动压片机 Uvitron紫外固化箱 Novascan紫外臭氧清洗机
Wenesco/EMS/Unitemp加热板 Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统，湿站系统 NXQ光刻机
Midas光刻机 AlphaPlasma等离子系统 Anatech等离子系统
Wabash/Carver自动压片机 Nanomaster系统
公司名称:迈可诺技术有限公司
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