| 品牌：NOVASCAN | 型号：PSD-UV4 | 规格：台 |
PSD 和PSDP 系列是经过验证***紫外臭氧清洗工艺设备。
典型应用包括：
·表面的原子级清洗
·聚合物粘接
·去除有机分子
·释放捕获的无机分子
·微流控制作
·微米/纳米构型
·紫外光固化
·表面化学改性
·表面杀菌
·表面氧化
·金属粘结准备……
样品准备应用：
除了上述所说的应用外, PSD 系列清洗机常用于扫描探测显微镜的样品应用，我们的设备能用于清洗原子力显微镜探针，扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料，也能用来改变物体表面的疏水性，有助于部件和表面的化学改性，经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状，削尖的探针有利于提高侧向分辨率。
PSD 清洗机有效、容易使用、高质量、可靠、高性价比！
Novascan 设备已经用于纳米技术，化学，生物学，光学，电子学，半导体和其他全球范围内的科学实验室。使用PSD 系列紫外臭氧清洗机的科研著作正持续增加。
样品材料:硅 氧化硅 金属 砷化镓 氮化硅 云母 陶瓷 聚合物（有机玻璃） 硼硅玻璃 石英 蓝宝石 其他材料
技术规格表：
PSD 和PSDP 系统在外观和尺寸方面相似，但是在控制能力，可升级性和加热板选项方面有所不同。
PSD 系列：PSD系列产品是数字控制的台式清洗设备，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度UV格栅灯盘, 和可调节高度的样品台，用于优化样品位置和清洗效果。4英
寸或者更大尺寸的系统具有进出气接口。该系统由一个方便的预设置控制器控制，非常容易操作。
·预设置的数字控制器
·方便简单的两按键操作
·自动工作：15.30.45.60.90.120分钟
·工作进程可以在任何时候手工终止
·系统不能提供加热盘选项
·经济实用的设计使得PSD系列成为的选择
·容易安装和使用
PSD Pro 系统：PSDP 系列产品是研究级的紫外臭氧清洗系统，具有的灵活性，能满足有机分子去除和其他众多的应用。可以直接在空气中操作，或是通过其中一个进气口通入氧气来增加臭氧产生。可编程数字控制器可以控制系统进程，来确保***时间和优化清洗参数。
·可编程数字控制器
·数字显示倒计时
·轻松升级到热盘选项
·可执行暂停和终止指令
·内部存储器用于记录之前的参数设置
—— 一个强大的系统，提供了增强的进程控制！
PSDP 内置加热盘系列：
PSDP-UVT 新增加一个加热盘，将PSDP-UV的能力提升到了新的水平，使其能化的分解有机分子物质。带PID反馈回路的数字控制器能精准保持热盘的温度，温度范围可达150摄氏度。
·和PSDP相同，但标准配置加热盘
·高利用率和高灵活性
·适应多用户环境
一般特性：
电 源：100.120.220.240VAC.50-60周期。
样品高度：所有系统都配置可调节高度的样品台，调节灯与样品之间的间距，并带位置锁定，标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。
UV格栅灯：产生臭氧的低压汞格栅灯，带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。
UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。
样品放置：打开清洗腔上盖，露出样品台，允许360度装入样品。
安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。
进出气口：标准配置2个气接口，可选更多。（PSD-UV3为选项）
真空反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。
温度范围：150摄氏度。（PSDP-UVT 标准配置或者PSDP 升级选项）
臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP选项）
工作原理 ：
PSD和PSDP系列产品通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子（污染物）。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解，样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。PSD和PSDP分解有机污染物，然后形成CO2和H2O蒸气，同时也将臭氧分子转变成氧分子。
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