供应匀胶机/匀胶旋涂仪WS-650-23详细介绍

Spin Processor匀胶旋涂仪

MYCRO公司提供美国***匀胶旋涂仪，请您放心选购！
MYCRO美国***的旋涂仪，自1985年开始，我们便为提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺。公司拥有WS系列各类旋转涂敷系统，目前客户已遍布全球。
匀胶机有很多种称谓，英文叫Spin Coater或者SpinProcessor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机/旋转涂层仪、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机旋涂仪
适用旋涂材料的尺寸范围

WS-650-23 标配为10mm  可选配到3mm或5mm  6英寸（150mm）直径圆片或5x5英寸（125mm）边长方片
WS-650-8 标配为10 mm 可选配到3mm或5mm8英寸（200mm）直径圆片或7x7英寸（175mm）边长方片
WS-650-15 标配为10mm  可选配到3mm或5mm12英寸（300mm）直径圆片或9x9英寸（225mm）边长方片
WS-650-X 标配为10 mm 可选配到3mm或5mm可根据用户特殊要求订制设备
可选择三种不同的安装构造:
***的Table Top型可自由放置在实验台面上
OND型，带远程控制器可用于手套箱等封闭环境
IND型，带远程控制器可用于WetStation湿法处理环境
高性能马达驱动
旋转控制
Mz型高精度旋涂用马达
转速范围:50~12000RPM  （注 50RPM是最小稳定转速）
加速度:13000RPM/S;
转速误差:＜±0.5RPM@8000RPM   NIST标准认证；
匀胶均匀性:＜1% @6 inch Wafer

安全设计
保护气流构造 
旋涂过程中可以充氮气和氩气,对旋转马达进行气流保护 ; 
防止飞片设计 
嵌锁的安全盖板;盖板锁定后才可以启动旋涂作业;   电子绝缘负载双保护;  
防腐构造设计;    
***650型高性能数显控制器。非常方便设定处理速度和加速度程序段；可设置顺序循环控制;控制精度
数显控制器采用高位计数光学编码器输出,高精度密封循环伺服控制器,经美国***研究院NIST认证,实时显示精度控制在设定值的0.006%以内(美国NIST激光测量器件的极限值)。系统无需重复校准! 
操作者可随时随地自由实现人机交互； 
设备运转进程中,可随意向前,向后或者往返跳跃操作步骤；    
循环指令,并可以重复操作(多达255次)；
在运转模式下也可以实时改变速度和加速度；   
包含PC程序端接口；   
可视化操作模型(化学试剂，传感器所见即所得的操作界面)；
故障报警装置(可形象显明故障发生位置)； 
加速度的最小分辨率为 1 RPM/S；    
宽广的速度设定范围(1~12000RPM)；

需要更详细的等离子体表面处理仪资料咨询，
请与迈可诺技术有限公司中***销服务中心联系

迈可诺技术有限公司

联系人：Taran Zhao

电话：4008800298-8843

手机：18221354817

Q Q： 2263325039

邮箱：taran_zhao@mycro.com.cn

主营产品：匀胶机，旋涂仪，甩胶台，匀胶台，涂层机，涂胶机，涂膜机,旋转涂敷仪, HPC,PPC, PAC，SCE系列等离子清洗机， Cargille光学试剂，光刻机/曝光机，压力机, 压片机, 热压机，WABASH热压机, CARVER热压机,LAURELL匀胶机、HOT PLATE热板 烤胶机
Laurell匀胶机    Harrick等离子清洗机     Diener等离子清洗机
Carver手动压片机  Uvitron紫外固化箱     Novascan紫外臭氧清洗机
Wenesco/EMS/Unitemp加热板     Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统，湿站系统     NXQ光刻机
AlphaPlasma等离子系统         Anatech等离子系统
Wabash/Carver自动压片机       Nanomaster系统
公司名称:迈可诺技术有限公司